2025/03/27 更新

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ウエムラ アキラ
上村 明
Uemura Akira
所属
大学院理工学研究科(工) 理工学専攻 電気電子工学 助教
職名
助教
連絡先
メールアドレス
外部リンク

学位

  • 博士(工学) ( 大阪大学 )

研究キーワード

  • 酸化物半導体

研究分野

  • ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性

取得資格

  • 衛生工学衛生管理者

講演・口頭発表等

  • マルチカソード反応性スパッタリング法によるZnO:Ga透明導電膜の作製

    瀧本 陽平, 原本 祐輔, 徳永 葵, 吉岡 勇太, 上村 明

    平成23 年度 電気関係学会四国支部連合大会  2011年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 高周波マグネトロンスパッタリング法によるSnO2:Al薄膜の作製

    前久 裕亮, 増原 隆介, 津村 達耶, 上村 明

    平成23 年度 電気関係学会四国支部連合大会  2011年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • マルチカソード反応性スパッタリング法によるZnO:Ga,N 薄膜の作製

    土井 隆広, 松ヶ崎 晴久, 瀧本 陽平, 原本 祐輔, 上村 明

    平成24年度 電気関係学会四国支部連合大会  2012年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 高周波マグネトロンスパッタリング法により作製したSnO2:Ga 薄膜の作製

    信尾 勝斗, 近藤 真洋, 横瀬 充, 前久 裕亮, 増原 隆介, 津村 達耶, 上村 明

    平成24年度 電気関係学会四国支部連合大会  2012年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 反応性スパッタリング法により作製したZnO:Ga,N薄膜の電気的特性に対するZnターゲット表面の影響

    高橋 理佳, 土井 隆広, 松ヶ崎 晴久, 上村 明

    平成25年度 電気関係学会四国支部連合大会  2013年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 高周波マグネトロンスパッタリング法により作製したSnO2:Ga薄膜の電気的性質

    高野 祐輔, 森 亮人, 信尾 勝斗, 近藤 真洋, 横瀬 充, 上村 明

    平成25年度電気関係学会四国支部連合大会  2013年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • ZnO薄膜に対するSiO2キャップ層形成の影響

    三谷 達也, 大村 和寛, 原田 学, 松本 浩史, 上村 明

    平成28年度 電気関係学会四国支部連合大会  2016年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 高周波マグネトロンスパッタリング法により作製したSnO2:N薄膜の電気的性質

    神垣 武志, 林 慎也, 石川 優輝, 吉田 真之介, 佐藤 弘章, 上村 明

    平成28年度 電気関係学会四国支部連合大会  2016年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • スパッタリング法により作製したZnO:P/ZnO:Ga薄膜の電流電圧特性における紫外線照射の影響

    梅原 弘暉, 津田 眞, 上村 明

    平成29年度 電気関係学会四国支部連合大会  2017年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • スパッタリング法により作製したZnO:P/ITO積層膜の基板温度依存性

    梅原 弘暉, 仲戸 大亮, 上村 明

    平成30年度 電気関係学会四国支部連合大会  2018年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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  • 高周波マグネトロンスパッタリング法により作製した SnO2:N 薄膜の電流電圧特性

    小谷 拓也, 山崎 壮介, 上村 明

    平成30 年度 電気関係学会四国支部連合大会  2018年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

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